Патент КНР на изобретение:
Высокоскоростной способ осаждения алмазных пленок из газовой фазы в плазме СВЧ разряда и плазменный реактор для его реализации
Авторы: Вихарев А. Л., Горбачев А.М., Литвак А.Г., Быков Ю.В., Денисов Г.Г., Иванов О.А., Колданова В.А.